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离子束溅射镀膜与清洗多功能平台

2017-06-30  点击:[]

离子束溅射镀膜与清洗多功能平台是在真空环境中,利用离子轰击靶材表面,使溅射出的粒子沉积在基片上,进而获得大面积纳米至微米级厚度的均匀膜层。技术指标如下:

1. 极限真空度:≤6.0×10-5 Pa (经烘烤除气后)

2. 系统真空检漏漏率:≤5.0x10-7 Pa.l/S

3. 系统短时间暴露大气并充干燥氮气后,再开始抽气,40分钟可达到6.0×10-4 Pa

4. 停泵关机12小时后真空度:≤5 Pa

5. 溅射真空室尺寸Ф 450mm ×350mm,电动上掀盖结构,可内烘烤100 150℃ ,选用优质不锈钢材料制造,氩弧焊接,表面进行特殊工艺抛光处理,接口采用金属垫圈密封或氟橡胶圈密封;

6. 磁控溅射靶材尺寸为Φ3英寸,2500W射频溅射,1500W直流溅射,射频溅射与直流溅射兼容,可实现单靶独立,多靶轮流、组合共溅等工作模式,靶内有水冷,有电动控制挡板组件及靶屏蔽罩。三个靶可共同折向下面的样品中心,靶与样品距离90 110mm 可调;

7.最大可镀基片尺寸为Φ 50mm ,基片加热最高温度 600°C ± 1°C ,由热电偶闭环反馈控制;基片可连续回转,转速510/分;基片可以加200V负偏压;配1套手动控制样品挡板组件及2个样品托;

8.镀膜厚度不均匀性≤5%

9. 对泵、靶、电极等缺水、过流过压、断路等异常情况进行报警并执行相应保护措施;完善的逻辑程序互锁保护系统。

10. 镀膜自动控制。计算机控制系统实现对靶挡板、样品自转、样品控温等控制。

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